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HWN-P1500-1000新型納米激光直寫系統(tǒng)是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結(jié)構(gòu)及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產(chǎn)。該系列產(chǎn)品還可根據(jù)用戶特殊需求，提供定制設計和制造。

HWN-P1500-800新型納米激光直寫系統(tǒng)是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結(jié)構(gòu)及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產(chǎn)。該系列產(chǎn)品還可根據(jù)用戶特殊需求，提供定制設計和制造。

HWN-P1500-500新型納米激光直寫系統(tǒng)是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結(jié)構(gòu)及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產(chǎn)。該系列產(chǎn)品還可根據(jù)用戶特殊需求，提供定制設計和制造。

HWN-P1500-200新型納米激光直寫系統(tǒng)是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結(jié)構(gòu)及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產(chǎn)。該系列產(chǎn)品還可根據(jù)用戶特殊需求，提供定制設計和制造。

HWN-P1500-100新型納米激光直寫系統(tǒng)是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結(jié)構(gòu)及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產(chǎn)。該系列產(chǎn)品還可根據(jù)用戶特殊需求，提供定制設計和制造。